Système PECVD à trois zones de chauffage 1200C
Système PECVD à trois zones de chauffage 1200C

Système PECVD à trois zones de chauffage 1200C

SK2-CVD-12TPB4 est un four tubulaire pour système PECVD, composé d'une alimentation RF de 300 W ou 500 W, d'un système de flux de précision multicanal, d'un système de vide et d'un four tubulaire. La température couramment utilisée est de 1 100 degrés Celsius ou moins, et ses principales caractéristiques sont une faible température de dépôt, une vitesse rapide, une bonne qualité de film, moins de trous d'épingle et moins de risques de fissuration. Un appareil idéal pour la croissance de nanofils ou la préparation de divers films minces à l'aide de la méthode CVD.
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Fonctionnalité

 

● Température maximale RT-1200 degré

● Type de four divisé, vous pouvez ouvrir le four.

● Peut introduire plus de 2 canaux de gaz, avec un degré de vide de 10 Pa à l'aide d'une pompe mécanique et d'une alimentation RF de 500 W pour améliorer le signal.

● Matériaux isolants en fibre céramique d'alumine de haute qualité

● Précision du contrôle de la température ±1 degré

● Avec fonction d'alarme de surchauffe

● Le ventilateur de refroidissement peut réduire la température du boîtier

 

Modèle

SK2-CVD-12TPB4

Dimensions : Longueur de la zone de chauffe standard (mm)

440 mm

Dimensions : Diamètre du tube standard (mm)

∮60 mm

Température max.

1200 degrés, température de fonctionnement continue 1100 degrés.

Tension (V)

220 1P

Type de thermocouple

K

Élément chauffant

Fil de résistance en alliage HRE

Précision de la température

±1 degré

Taux de chauffage

0-30 degré/min réglage libre

Matériau de la chambre

Utilisation d'un matériau avancé en fibre microcristalline d'alumine de haute qualité

Structure du four

Structure à double couche refroidie par air, la température de surface est inférieure à 60 degrés

Contrôleur de température

Instrument de contrôle de température PID intelligent, 30 segments de programme, contrôle SSR, fonction d'auto-réglage des paramètres PID ; augmentation de la température du programme, conservation de la chaleur du programme, refroidissement du programme

Alimentation RF 500 W

Puissance de sortie : 5-500 W ±1 degré

Fréquence RF : 13,56 MHz ±0,005 %

Puissance réfléchie : jusqu'à 100 W

Match : Automatique

Interface RF : 50Ω, type N

Refroidissement : refroidissement par air

Alimentation : CA 208-240V, 50/60 Hz

Système de flux de précision à 4 canaux de gaz

1. Débit à pleine échelle (5, 10, 30, 50, 100, 200, 300, 500)ML/min. 10L/min.

2. Type de vanne : Vanne solénoïde.

3. Position de repos de la vanne : Normalement fermée.

4. Pression différentielle : (50-300)kpa

5. Résistance à la pression : 3mpa.

6. Température de fonctionnement : 5-45 degré

7. Matériaux : acier inoxydable 316L.

Système de vide

5*10-3Pa

Raccord rapide KF25, soufflet en acier inoxydable, clapet manuel et bride, pompe à vide

Des systèmes de vide plus élevés peuvent également être équipés en option.

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BIENVENUE OEM/ODM

 

accessoires standards

 

Gants thermiques|Crochet de creuset|Thermocouple|Bloc de tubes|Manuel d'utilisation|Outils|Pompe à vide|Tube de quartz|Bride|Bague d'étanchéité|Tuyau de gaz 10 mm|Support de bride, Système de gaz, Alimentation RF.

 

Facultatif

 

Différentes zones de chauffage au choix ;

Contrôle de l'écran tactile LCD pour choisir

Port RS485/USB pour connecter un ordinateur au choix.

 

Image détaillée pour CVD-PECVD

 

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Alimentation RF 500 W
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Système de vide
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Système de flux de précision à 4 canaux de gaz

 

Application

 

Cet appareil est principalement utilisé pour la croissance de nanofils ou la préparation de diverses croissances de films minces à l'aide de la méthode CVD.

 

garantie

 

Garantie d'un an et assistance technique à vie

Conseils spéciaux :

1. Les consommables tels que l'élément chauffant, le tube de quartz, le creuset d'échantillon, etc. ne sont pas couverts par la période de garantie.

2. Les dommages causés par l’utilisation de gaz corrosifs et de gaz acides ne sont pas couverts par la garantie.

 

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